他既然是专程来考察光刻机，那对于这些基本参数自然有所了解。

虽然被一大堆突然涌入的数据搞得有些头脑发胀，但还是敏锐地捕捉到了其中最关键的部分。

na值，180！

“我记得之前提交上去的那份评估报告里，最高规格的数值孔径预估是170？”

面对这个问题，张汝宁脸上露出一丝茫然。

他并不清楚有个什么评估报告的事情。

常浩南则立刻接过话头解释道：

“栾主任，那份报告里使用的170数值，值是我们在进行不同技术路线横向比较时设定的……嗯……参照基准，当时为了公平对比，说明镥铝石榴石体系的优势，我设定的前提是其他所有条件，比如光源、视场、机械平台等都保持一致。”

“但在实际设计过程中，因为物镜组的整体结构变得简单了很多，所以这套系统的底镜有效视场比之前的1500物镜组拓宽了大约15……换句话说，在相同na值要求下，光线通过物镜边缘区域的入射角度可以更小，这极大地减轻了设计超高na系统时最难克服的边缘像差压力……”

“……”

“总之，”他最后总结道：“这01的额外提升，是设计自由度增加带来的实际工程红利，也是新方案综合优越性的直接体现。”

栾文杰未必完全听懂了他的长篇大论，但眼前的结果显然令他心情大好：

“所以常院士，刚才你提到华芯国际能以pp工艺大批量生产新一代的7n芯片，关键就在于这个180的na值？”

常浩南点头：“正是。”

接着，又从旁边拿过一张表格递给对方：

“180的数值孔径，相当于我们把193n duv光源的等效波长压缩到了10722n，对比na值135的老体系，相当于把特征尺寸的理论极限从40n一举推进到27n左右！”

栾文杰的视线表格上飞速移动，最终找到了27n对应的节点尺寸——

三星的5n，或tsc的7n ，或英特尔的10n。

总之，已经是目前最强的一档。

是过去一般认为，只有euv光刻机才能够涉足的领域。

看到对方的视线已经不再移动，常浩南终于给出了阶段性的结论：

“这个能力，足以覆盖当前tsc、三星等厂商定义的7n，乃至未来3-5年内可能出现的更先进节点的全部生产需求！而且，都是依靠单次曝光工艺就能稳定实现的。”

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