na物镜组设计痛点的关键。

他心中迅速盘算起来：

如果能把现有duv光刻机的na值从135大幅提升到170以上，相当于把等效分辨率波长从1422n压缩到1129n。

这将极大扩展现有duv设备的实用能力边界，可能直接解决40n乃至28n的图形化问题，显著减轻对多重曝光技术的依赖，从而绕开良率和成本的泥潭！

片刻的思索后，常浩南心中已有了初步的盘算。

他依旧没有直接点破负折射率材料的存在，但决定再向前推进一步。

“实不相瞒，火炬实验室目前正在探索一种新型的光学系统设计理念，其中涉及一些……非传统的路径。”他措辞谨慎，“为了更好地评估这种新理念的潜力，我们迫切需要一些关键的设计输入参数。”

吴明翰心说终于来了。

对方提出的要求极其具体且专业，目标明确指向了物镜系统。

结合之前提到的“新型设计理念”和对镥铝石榴石特性的关注，一个模糊但激动人心的轮廓在吴明翰脑海中逐渐浮现——

常院士手中，很可能掌握着一种能够解决高na值问题的颠覆性技术！

想到这里，他用肉眼难辨的速度掏出了早就准备好的纸笔：

“您说”

常浩南看着眼前这副早有准备样子也是一愣，然后开始列出需求：

“首先，我们需要明确目标na值下对应的、实际光刻工艺所要求的光学设计规格。包括但不限于：有效成像视场的大小、允许的最大波像差、畸变容限、还有系统的工作距离等硬性指标。”

“其次是透镜组的整体结构布局……”

“……”

洋洋洒洒，十几分钟才终于说完。

吴明翰从头到尾浏览了一下。

不知道是不是常浩南有意，总之几乎不涉及华芯国际的核心技术。

甚至无需向董事会征求意见，他这个层级就能直接做决定。

于是朝着周学点了点头。

后者随即接过话茬：

“虽然全折射物镜的研发项目已经中止，但所有技术文档和实验数据都完整归档保存着，我可以直接授权调阅，虽然当初的设计远达不到17na的指标，但里面的设计逻辑、材料选择考量、以及当时遇到的像差问题记录，应该很有价值。”

“放心，调阅就足够了。”常浩南点头，“都是一套体系里面的，我 本章已阅读完毕(请点击下一章继续阅读!)

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