电脑版
首页

搜索 繁体

第796节(1/3)

热门小说推荐

最近更新小说

然后刘海就来到了烽火科技公司。

“谢谢老板。”倪南看到刘海先道谢,刘海来的是办公的地方,实验室在另外的地方,当然刘海是从地下停车场上来的。

“算起来是我赚了,毕竟你们都在给我工作。”刘海呵呵一笑。

“老板,龙芯三代芯片测试顺利进行。”

“很不错。”刘海点点头。

“光刻机掩模方向研究怎么样?”刘海问的光刻机掩模技术,是在光刻机发展里程碑上重要的技术这项技术历史上1990年被荷兰的阿斯麦运用。

光刻机掩膜版上承载有设计图形,光线透过它,把设计图形透射在光刻胶上。

在投影式光刻机中,掩膜版作为一个光学元件位于会聚透镜与投影透镜之间,并不和晶圆有直接接触。

掩膜上的图形缩小4~10倍后透射在晶圆表面。这个过程类似于传统照相机的底片功能,通过曝光工艺将图形从掩膜版转移到基底上。

“正在组织人力物力进行对这项技术进行公关,因为其中涉及到的东西比较多。”倪南听到刘海问这技术就开口回答。

“光刻机的折射率问题,我觉得可以通过液体解决,比如水,这也是一个研究方向。”刘海说的光刻机折射率的问题也正是在后面,荷兰阿斯麦战胜小本子的关键技术。

在90年代中期光刻机的巨头并不是阿斯麦,而是尼康与佳能,就因为阿斯麦先一步解决了激光折射率的问题,也就提前了半年时间。

但是就这半年时间,阿斯麦彻底把尼康与佳能甩在了后面。

“老板,这真是一个天才的想法。”倪南眼睛一亮,因为有科学家已经断言芯片只能达到一个最高的精度,因为光折射率的问题。

“我也是最近看了一些东西才想到的,这个试验一定要绝密。”刘海呵呵一笑回答。

站在巨人的肩膀上就是有这点好处,光刻机的发展方向自己已经掌握在手里,根本不需要像现在的其他光刻机公司还在瞎子摸象一样的发展。

光刻机历史上也是有好几种方向,每个阶段都有很多被淘汰。

光刻机研发公司在各方面也投入巨大,最终才选择出了正确的方向,而自己根本不需要多余的投入。

“现在电脑生产怎么样?”

“供不应求,老板的预测十分准确,现在电脑生产压着5万台的订单,只是白头鹰的市场始终没打开。”

本章尚未完结,请点击下一页继续阅读---->>>

Loading...

内容未加载完成,请尝试【刷新网页】or【设置-关闭小说模式】or【设置-关闭广告屏蔽】~

推荐使用【UC浏览器】or【火狐浏览器】or【百度极速版】打开并收藏网址!

收藏网址:https://www.fulishuwu.org