而在ic制造中，光刻又是半导体芯片生产流程中最复杂、最关键的工艺步骤，耗时长、成本高。

其中的难点和关键点，在于将电路图从掩模上转移至硅片上。

这一过程，目前只能通过光刻，才能最有效地实现。

所以，光刻的工艺水平，往往直接决定了芯片的制程水平和性能水平。

安正国找来技术人员和材料，在苏扬的指导下，这些专业生产芯片的员工，初步了解到这台光刻机的使用流程。

光刻的原理，实际上非常简单。

在硅片表面覆盖一层具有高度光敏感性的光刻胶，再用光线透过掩模照射在硅片表面。

被光线照射到的光刻胶，会发生反应。

此后，再用特定的溶剂洗去被照射或未被照射的光刻胶，就实现了电路图从掩模到硅片的转移。

这和华夏古代的印刷术，实际上有一些相似之处，但光刻技术却比印刷术难了千万倍。

一般的光刻步骤，有气相成底膜、旋转涂胶、软烘、曝光、显影、坚膜。

接着，就是进行检测，主要是显影检测，让合规的硅片进入后续的蚀刻流程。

所谓蚀刻，便是通过化学或物理的方法，有选择地从硅片表面，除去不需要材料的过程。

完成之后，就能通过特定溶剂，洗去硅片表面残余的光刻胶了。

当然，这是最简易的光刻步骤，在实际生产制造中，比这复杂了上百倍。

从开始光刻，到最后洗去残余的光刻胶，几个步骤，就足足花了三个多小时。

当然，这里面也有一些员工刚刚接触新设备，操作不顺手的因素。

当时间来到下午四点半的时候。

车间内，一片惊喜和欢腾的景象。

“出来了，居然真的做出来了！”

“60n的电路图，居然真的被我们转移到了硅片上。”

“不可思议啊！全华夏能做60n芯片的企业，不超过三家，而且全是在18年下半年才刚刚突破的技术，还是在实验室里！做到量产的话，得到今年年底，甚至是明年年初去了。”

“是啊，而我们现在，却拥有了一台可以量产60n芯片的光刻机，如果操作熟练了，速度提上去，再进行交替光刻，一天至少可以造上数百片12寸的圆晶啊！”

“这是一个突破，了不起的突破，如果我们把这里发生的事情，宣布出去，足以震惊整个华夏，乃至是中央都要被惊动！”

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